由于受到制裁，EUV光刻机最近在中国受到极大的关注。
前段时间，EDN的《二手光刻机，曲线救“芯”，1000万美金实现12寸国产芯片生产》报道了中国企业从韩国代理商购买了二手ASML浸没式光刻机。SK海力士宣布将在韩国新工厂首次使用EUV光刻机生产第四代10nm DRAM存储芯片。
存储芯片厂商SK海力士于近日宣布，其公司位于韩国首尔南部利川市的M16新厂已经竣工，SK海力士将首次使用极紫外辐射（EUV）光刻机生产存储芯片。SK海力士经过两年的时间，花费了3.5万亿韩元（约合31亿美元）建成了这座芯片工厂，工厂长336米，宽163米，高105米，相当于一座37层公寓的高度，是SK海力士目前最大的芯片工厂。
SK海力士称已在新厂M16引进了EUV光刻机，从而提高芯片电路的精细程度。此前SK海力士计划从今年6月开始使用EUV光刻机量产第四代10nm（1α）DRAM芯片。
由 dawei
【声明】：南充站长网内容转载自互联网，其相关言论仅代表作者个人观点绝非权威，不代表本站立场。如您发现内容存在版权问题，请提交相关链接至邮箱：bqsm@foxmail.com，我们将及时予以处理。